Эта работа опубликована в сборнике статей по материалам 70-й Юбилейной итоговой научной студенческой конференции им. Н.И. Пирогова (г. Томск, 16-18 мая 2011 г.), под ред. В. В. Новицкого, Л. М. Огородовой. − Томск: Сибирский государственный медицинский университет, 2011. − 430 с.

 

Скачать сборник (формат MS Word, 7,3 мб)

Посмотреть основную информацию о сборнике, обложку и т.д.

 

Актуальность: возбудители инфекционных заболеваний человека значительно отличаются друг от друга по уровню организации и ультраструктуре. Структура клеточной стенки, наличие капсулы, способность синтезировать пигменты отражается на способности микроорганизмов противостоять действию химических и физических факторов. Высокая чувствительность микроорганизмов к УФ - излучению хорошо известна и широко применяется в медицине для стерилизации и дезинфекции.  С этой целью используют разработанные в 1936-1940 гг ртутно-аргоновые лампы низкого давления (РЛНД) с длиной волны 254 нм. В процессе эксплуатации таких ламп возможна разгерметизация колбы лампы и выход паров ртути, которые могут оседать на обеззараживаемой поверхности, попадать в раствор или в воздушную среду, оказывая негативное влияние на организм [1]. Альтернативным источником  УФ - излучения является эксилампа на молекулах XeBr*. Она не содержит ртути и имеет узкополосный спектр 200 - 300 нм (в пределах бактерицидного действия) с максимумом 283 нм. Практический интерес представляет чувствительность  разных микроорганизмов к УФ - излучению нового источника.

Цель: определить чувствительность микроорганизмов, отличающихся по уровню организации (прокариоты, эукариоты) и ультраструктуре (грамположительные, грамотрицательные и синтезирующие капсулу) к УФ – излучению эксилампы на молекулах XeBr*.

Материалы и методы: облучение микроорганизмов проводили XeBr - эксилампой (модель XeBr_BD_P, Институт сильноточной электроники СО РАН, Россия) [2], имеющей бактерицидную отдачу 8,7 %. В качестве РЛНД использовали лампу Philips TUV – 15 с бактерицидной отдачей 27 %. Доза облучения составляла 45 Дж/м². Резистентность к УФ - злучению определяли на музейных культурах из коллекции кафедры микробиологии и вирусологии: E. coli, K. pneumonia, P. aeruginosa, S. aureus, и C. albicans, обладающих всеми свойствами типичными для данных микроорганизмов.

Резистентность к УФ - излучения XeBr* лампы и РЛНД оценивали при поверхностном облучении взвеси суточных культур на чашках Петри с питательным агаром. Опытные чашки облучали обоими источниками УФ - излучения в течение 15 сек. Контрольные чашки с посевами облучению не подвергали. О чувствительности микроорганизмов судили  по количеству колоний, выросших на чашках после 24 ч инкубации при 37⁰С.

 

Результаты: Из всех тестируемых микроорганизмов наиболее высокую чувствительность к УФ - излучению обоих источников, проявили грамотрицательные что может быть связано с небольшой толщиной их клеточной стенки (E. coli, K. рneumonia, P. aeruginosa). Особенно чувствительными микроорганизмы этой группы оказались к излучению с длиной волны 283 нм. Вероятно, УФ - излучение эксилампы вызывает большее число повреждений, так как ее спектр имеет коротковолновый «хвост» в диапазоне 200-300 нм [2]. В этой части спектра находятся длины волн эффективно воздействующие на нуклеиновые кислоты (260-265 нм) и белковые соединения (280 нм). Бактерицидный эффект линейчатого излучения РЛНД, обусловлен только инактивирующим действием резонансной линии ртути на длине волны 254 нм, которая соответствует спектру поглощения нуклеиновых кислот и вызывает преимущественно их повреждение [3].

Наиболее устойчивыми к УФ - излучению оказались S. aureus и C. аlbicans, но  достоверных различий их чувствительности к излучению тестируемых источников не выявлено. Это может быть связано с тем, что:

Рис.1. Чувствительность микрорганизмов к УФ - излучению РЛНД и ХеВr - эксилампы.
 
Выводы: Показано, что наибольшей чувствительностью к УФ - излучению, обладают грамотрицательные микроорганизмы, наименее чувствительны эукариоты.